Sasaran Chromium
Sasaran Chromium, Sasaran Cr, Sasaran sputtering Chromium
Ketulenan:99.5%-99.99%
Sasaran segi empat tepat, Sasaran bulat, sasaran berputar
Proses pembentukan: tekanan isostatik panas (HIP)
Saiz konvensional: ID55*OD70*L, ID125*OD153*L, φ100*40mm, φ150*30mm, φ155*30, φ80*40mm dll
Aplikasi: salutan hiasan, salutan alat, salutan paparan rata, industri suria filem nipis, industri paparan panel rata, industri kaca penjimatan tenaga, industri salutan optik (seperti salutan cermin spion kereta) dan lain-lain
pengenalan produk
Spesifikasi
Ketulenan: 99.5%~99.95%;
Proses pembentukan: menekan isostatik panas (HIP);
Saiz konvensional: ID55*OD70*L, ID125*OD153*L, φ100*40mm, φ150*30mm, φ155*30, φ80*40mm, dsb.;
Permohonan: salutan hiasan, salutan alat, salutan paparan rata, industri suria filem nipis, industri paparan panel rata, industri kaca penjimatan tenaga, industri salutan optik (seperti salutan cermin spion kereta), dsb.
Chromium | Prestasi produk | ||
Kesucian | 99.5 | 99.95 | |
Ketumpatan g/cm3 | Lebih besar daripada atau sama dengan 7.12 | Lebih besar daripada atau sama dengan 7.12 | |
Saiz butir/μm | Kurang daripada atau sama dengan 100 | Kurang daripada atau sama dengan 100 | |
Jumlah kandungan kekotoran logam/ppm | Kurang daripada atau sama dengan 5000 | Kurang daripada atau sama dengan 500 | |
Kekonduksian terma/W/mK | 60 | 100 | |
Pekali pengembangan haba/1/K | 8×10-6 | 8×10-6 | |
Saiz/mm | Planar | Kurang daripada atau sama dengan 1600×500 | Kurang daripada atau sama dengan 1600×500 |
Berpusing | Pembentukan kamiran oleh HIP | Pembentukan kamiran oleh HIP | |
2N5 (Unsur surih)PPM Lebih besar daripada atau sama dengan 7.12g/cm3
Komposisi | Fe | Al | Si | C | S | O | N |
Standard | Kurang daripada atau sama dengan 1500 | Kurang daripada atau sama dengan 1200 | Kurang daripada atau sama dengan 1500 | Kurang daripada atau sama dengan 200 | Kurang daripada atau sama dengan 50 | Kurang daripada atau sama dengan 1400 | Kurang daripada atau sama dengan 300 |
Nilai ujian | 980 | 300 | 600 | 62 | 50 | 1200 | 200 |
2N8 (Unsur surih)PPM Lebih besar daripada atau sama dengan 7.12g/cm3
Komposisi | Fe | Al | Si | C | S | O | N |
Standard | Kurang daripada atau sama dengan 800 | Kurang daripada atau sama dengan 300 | Kurang daripada atau sama dengan 400 | Kurang daripada atau sama dengan 200 | Kurang daripada atau sama dengan 50 | Kurang daripada atau sama dengan 1000 | Kurang daripada atau sama dengan 100 |
Nilai ujian | 740 | 78 | 92 | 84 | 50 | 340 | 30 |
3N (Unsur surih)PPM Lebih besar daripada atau sama dengan 7.12g/cm3
Komposisi | Fe | Al | Si | C | S | O | N |
Standard | Kurang daripada atau sama dengan 500 | Kurang daripada atau sama dengan 100 | Kurang daripada atau sama dengan 150 | Kurang daripada atau sama dengan 150 | Kurang daripada atau sama dengan 30 | Kurang daripada atau sama dengan 500 | Kurang daripada atau sama dengan 100 |
Nilai ujian | 290 | 47 | 80 | 90 | 28 | 450 | 50 |
3N5 (Unsur surih)PPM Lebih besar daripada atau sama dengan 7.12g/cm3
Komposisi | Fe | Al | Si | Cu | Ｎi | C | S | O | N |
Standard | Kurang daripada atau sama dengan 100 | Kurang daripada atau sama dengan 50 | Kurang daripada atau sama dengan 50 | Kurang daripada atau sama dengan 10 | Kurang daripada atau sama dengan 50 | Kurang daripada atau sama dengan 50 | Kurang daripada atau sama dengan 30 | Kurang daripada atau sama dengan 150 | Kurang daripada atau sama dengan 80 |
Nilai ujian | 50 | 45 | 40 | 7 | 10 | 24 | 27 | 137 | 30 |
Zarah kromium ketulenan tinggi: saiz zarah yang biasa digunakan ialah: 1-3mm, 3-5mm, 40 mesh, -20-300 mesh, 40#, 60#, 80#, 200#, dsb. untuk salutan penyejatan, ketulenan tinggi, kesan penyejatan yang baik.
kes permohonan
Sasaran percikan kromium biasanya digunakan dalam proses pemendapan filem nipis, seperti pemendapan wap fizikal (PVD) dan percikan magnetron. Proses ini digunakan dalam pelbagai industri, termasuk semikonduktor, elektronik, aeroangkasa, dan automotif, untuk mendepositkan lapisan nipis bahan ke substrat untuk pelbagai tujuan, seperti meningkatkan sifat bahan atau mencipta kemasan permukaan tertentu.
Ia mempunyai sifat lekatan yang sangat baik, takat lebur yang tinggi, dan stabil dari segi kimia, menjadikannya ideal untuk digunakan dalam proses ini. Ia digunakan untuk mendepositkan filem nipis kromium pada pelbagai substrat, seperti kaca, logam, dan seramik, untuk mencipta pelbagai salutan berfungsi dan hiasan.
Satu aplikasi sasaran kromium Cr adalah dalam industri semikonduktor, di mana ia digunakan untuk mencipta lapisan filem nipis kromium untuk pelbagai tujuan, seperti sambung elektrod, lapisan penghalang dan sesentuh ohmik. Lapisan ini adalah komponen penting peranti semikonduktor, dan sifatnya boleh mempengaruhi prestasi dan kebolehpercayaan peranti.
Dalam industri aeroangkasa dan automotif, ia digunakan untuk mencipta salutan pelindung pada komponen enjin, seperti bilah turbin dan sistem ekzos, untuk meningkatkan ketahanan dan ketahanannya terhadap persekitaran suhu tinggi.
Dalam industri elektronik, sasaran sputtering Cr digunakan untuk mendepositkan filem nipis pada pelbagai substrat, seperti paparan dan skrin sentuh, untuk meningkatkan prestasi dan ketahanannya.
Cool tags:
Anda mungkin juga berminat
Hantar pertanyaan
