Sasaran Katod Chrome Cr Berbilang Arka
Sasaran Chromium;Sasaran Sputtering Chromium
Bahan:Chrome Cr
Ketulenan:Berjulat daripada 99.9%(3N) - 99.99%(4N)Saiz:Dia100mm×40mm;Dia100mm×45mm;Dia100mm×50mm;Dia80mm×40mm;Dia60mm×30mm atau disesuaikan
Teknologi pemprosesan: cair dan HIP
pengenalan produk
Sasaran katod Chrome Cr Berbilang Arka ialah sejenis sasaran pemendapan filem nipis yang biasa digunakan dalam proses pemendapan wap fizikal (PVD). Ia diperbuat daripada kromium (Cr) ketulenan tinggi dan digunakan untuk mendepositkan filem nipis krom pada substrat.
Istilah "berbilang lengkok" merujuk kepada kaedah pemendapan yang digunakan dengan jenis sasaran ini. Dalam proses PVD berbilang arka, arka elektrik dipukul di antara sasaran katod dan anod. Ini menyebabkan atom bahan katod dikeluarkan daripada sasaran Chromium dan didepositkan ke substrat. Arka berbilang digunakan untuk meningkatkan kadar pemendapan dan meningkatkan kualiti filem.
Chrome ialah bahan yang popular untuk salutan PVD kerana kekerasannya yang tinggi, rintangan haus dan rintangan kakisan. Ia digunakan dalam pelbagai aplikasi, termasuk bahagian automotif, komponen aeroangkasa, dan salutan hiasan.
Sasaran Sputtering Chromium biasanya dibuat menggunakan proses metalurgi serbuk, yang melibatkan pemadatan serbuk kromium ketulenan tinggi ke dalam bentuk sasaran pepejal. Sasaran kromium kemudiannya disinter pada suhu tinggi untuk mencapai ketumpatan dan struktur mikro yang dikehendaki.
Secara keseluruhan, Ia adalah komponen utama dalam proses PVD untuk mendepositkan salutan krom, yang digunakan secara meluas untuk prestasi tinggi dan daya tarikan estetiknya.
Spesifikasi:
●Bahan:Cr Tulen 99.9%-99.99%,aloi NiCr
●Ketulenan:Berjulat daripada 99.9%(3N) - 99.99%(4N)
●Standard: ASTM,DIN,JIS,ASME
●Saiz:Dia100*40mm, 100*45mm, 98*40mm, 95*40mm, 80*50mm, 80*45mm, 80*40mm
●MOQ: 5 keping
ciri:
Sasaran kromium dihasilkan oleh proses penekanan isostatik panas (HIP) lanjutan. Produk termasuk sasaran segi empat tepat, sasaran arka, sasaran anulus dan nisbah aspek besar sasaran tiub yang dibentuk secara bersepadu, dengan ketulenan dan ketumpatan yang boleh dikawal, butiran halus dan seragam, hayat perkhidmatan yang panjang dan sebagainya.
Parameter:
| Sasaran Chromium | Prestasi produk |
| Kesucian % | 99.9%-99.99% |
| Ketumpatan g/cm3 | >7.12 |
| Saiz Bijirin um | <100 |
| Jumlah kandungan kekotoran logam PPM | <5000 |
| Kekonduksian terma Wm/k | 600-100 |
| Pekali pengembangan haba | 8x10-6 |
Bahan lain untuk sasaran sputtering
Sasaran sputtering logam tulen tinggi | ||
aluminium | pelet, bulat, satah, sasaran boleh putar | 3N~6N |
Kronium | 2N~3N5 | |
Perak | 4N~5N | |
Platinum | 4N~5N | |
emas | 4N~5N | |
nikel | 4N~5N | |
timah | 4N~6N | |
Mangan | 4N~5N | |
Kobalt | 3N~4N | |
besi | 3N~4N | |
Zink | 4N~5N | |
Zirkonium | 2N2~4N | |
titanium | 4N~5N | |
Indium | 4N~5N | |
Germanium | 4N~6N | |
silikon | 4N~6N | |
Tembaga | 4N~5N | |
Molibdenum | 3N~4N | |
Niobium | 3N5 | |
Tatalum | 4N5 | |
Tungsten | 3N5 | |
Hafnium | 3N | |
Vanadium | 2N5~3N | |
Sasaran salutan ialah sumber sputtering yang membentuk pelbagai filem nipis berfungsi pada substrat dengan sputtering magnetron, penyaduran ion berbilang arka, dan jenis sistem salutan lain di bawah keadaan proses yang sesuai. Ringkasnya, bahan sasaran adalah bahan sasaran yang dibombardir oleh zarah bercas berkelajuan tinggi. Ia digunakan dalam senjata laser bertenaga tinggi. Apabila laser dengan ketumpatan kuasa yang berbeza, bentuk gelombang keluaran yang berbeza, dan panjang gelombang yang berbeza berinteraksi dengan sasaran yang berbeza, pembunuhan dan kemusnahan yang berbeza akan berlaku. kesan. Sebagai contoh: Salutan percikan magnetron penyejat ialah salutan penyejatan pemanasan, filem aluminium, dll. Gantikan bahan sasaran yang berbeza (seperti aluminium, tembaga, keluli tahan karat, titanium, sasaran nikel, dll.), Anda boleh mendapatkan sistem filem yang berbeza (seperti super -filem aloi yang keras, tahan haus, anti-karat, dsb.).
Kes permohonan
Ini digunakan secara meluas dalam pelbagai industri untuk mendepositkan filem nipis krom ke substrat. Berikut ialah contoh kes permohonan:
Salah satu aplikasi utama sasaran kromium adalah dalam industri automotif untuk mendepositkan salutan tahan haus pada komponen enjin seperti gelang omboh, bearing dan batang injap. Salutan ini meningkatkan ketahanan dan prestasi komponen serta mengurangkan geseran dan haus.
Contohnya, pembekal automotif terkemuka pernah meletakkan salutan krom keras pada gelang omboh. Sasaran kromium diperbuat daripada kromium ketulenan tinggi dan mempunyai diameter 100 mm dan ketebalan 3 mm. Proses PVD menggunakan sistem pemendapan berbilang arka dengan atmosfera gas argon dan kadar pemendapan 0.2-0.4 μm/min.
Salutan krom yang terhasil mempunyai ketebalan 3-5 μm dan mempamerkan lekatan, rintangan haus dan rintangan kakisan yang sangat baik. Gelang omboh bersalut menunjukkan peningkatan ketara dalam ketahanan dan prestasi berbanding gelang tidak bersalut.
Kes aplikasi ini menggambarkan keberkesanan sasaran percikan kromium dalam mendepositkan salutan krom berkualiti tinggi untuk aplikasi automotif. Penggunaan salutan PVD ialah cara penting untuk meningkatkan prestasi dan kebolehpercayaan komponen automotif, dan sasaran katod Chrome Cr berbilang arka memainkan peranan penting dalam proses ini. Kami, sebagai pembekal sasaran kromium, boleh membekalkan sasaran pelet krom, bulat sasaran, sasaran planar dan sasaran boleh putar juga.
Cool tags: Sasaran Chromium;Sasaran Sputtering Chromium; Pembekal sasaran Chromium
Anda mungkin juga berminat
Hantar pertanyaan








